诺思（NOSS）半导体超高洁净软管专为半导体洁净环境设计，采用超低析出材料制造，确保输送介质的超高纯度。该软管具有优异的洁净度、耐化学性和柔韧性，满足半导体制造的严格要求，是半导体洁净环境的理想选择。
核心技术参数

• 材质：高纯度PTFE/PFA/PU（可选）

• 洁净度：Class 10-100级洁净室生产

• 析出物：<5ppb（超低析出）

• 工作温度：-60℃至+260℃（材质相关）

  内壁粗糙度：Ra≤0.2μm

  颗粒度：<0.05μm颗粒控制

  认证标准：USP Class VI、FDA 21 CFR 177.1550

产品优势

• 超高洁净度：Class 10-100级生产，析出物极低

• 内壁光滑：Ra≤0.2μm，不积尘、易清洗

  耐化学性优异：耐受多种化学品

  多材质选择：PTFE/PFA/PU可选，满足不同需求

应用场景

• 半导体洁净室：洁净室流体输送、工艺连接

• 晶圆制造：晶圆厂通风系统、工艺排气

• 封装测试：封装车间通风、测试环境通风

• 实验室：半导体实验室通风、洁净实验室通风

常见问题解答

Q：洁净度等级是多少？

A：在Class 10-100级洁净室生产，满足半导体行业要求。

Q：析出物指标是多少？

A：析出物<5ppb，远高于行业标准，确保半导体纯度。

Q：通过哪些认证？

A：通过USP Class VI、FDA 21 CFR 177.1550等相关认证。